熱処理を行う目的

IN-1700
▲IN-1700

  • 熱処理の目的とラボの加工サービス
  • ユーザの加工工程で加熱を受ける用途では、ラミネーションカールが生じたり、熱弛みによる皺、潜在的な熱歪による高精細印刷不良等の問題があり、平面性の良好な低熱収縮のフィルムが要望されています。縦または/および横延伸プロセスで製膜された結晶性フィルムの潜在的な熱歪をオフライン工程で弛緩熱処理することにより熱寸法安定性を高める加工サービスを提供します。
  • ITOは代表的な透明導電膜として知られていますが、製膜直後のスパッタリング膜は十分な結晶化が進んでおらず、ヘイズが高く導電性も十分ではありません。このため、比較的長時間の後結晶化処理を施すのが普通です。
    ラボは国内最大級の加熱装置を用いた生産性の高い加工サービスを提供します。
  • 溶剤を含む熱溶融押し出し、溶剤キャスティング法で製膜されたフィルムの残留溶剤対策としてお客様の絶乾処理のご要望に適した多種類の加熱方法を提案することができます。

IN-1700のご紹介
化学処理と熱歪除去のインライン加工装置

IN-1700
IN-1700グラフ

150℃ x 30umの試験条件下、MD方向加熱収縮率を0.25%程度まで下げることが可能

PETフィルムをアニール処理することにより低熱収縮フィルムを作ることが可能です。またハードコートフィルムやITOフィルム(結晶化処理)などの熱処理の受託加工も行えます。このアニール炉には薄膜塗工用ヘッド、マイクログラビア装置(康井精機特許)が取り付けられています。コーティングと同時にアニール処理が行えます。また巻取装置手前にはセラミック電極のコロナ処理機も設置されています。

■優れた熱寸法安定性付与
▪ゼロ熱収縮PENフィルムの実績
▪PETフィルム、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム他実績多数
■一般的なPETフィルムのアニール処理後の150℃加熱収縮率データを示します。
■JIS C-2318 準拠、150℃ x 30分

※アニール処理の3要素である張力、温度、滞留時間を調整することで、お客様のご希望の加熱収縮率に加工いたします。

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こんなニーズに

  • 高機能プラスチックフィルムの1700mm広幅加工
  • 熱歪除去により優れた熱寸法安定性付与
    ゼロ熱収縮PENの実績
    ▪ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート実績多数
  • 熱処理後も良好なフィルム平面性を維持
  • ラミネートカールの抑制
  • 高精細回路印刷の精度断線リスクの低減
  • 残留溶剤除去
  • ITO後結晶化

IN-1700装置の特徴

  • 国内でも最大級の広幅熱処理加工装置
  • 230℃の加熱炉を利用し30分間のロール熱処理が可能
  • 異物除去のためのクリーニングロール装備
  • フィルム熱歪除去と物理化学的表面改質を同時に行うことが可能
低熱収縮化処理処理行程例

開発、試作、受託生産専用キュア炉
IN-700 (処理幅650mm)

IN-700

IN-700のユニークな実績

  • 2層フレキシブル回路基板成型
  • 透明ポリイミド単膜成型
    ・低線膨張係数
    ・低黄変
    ・アンチカール
  • ITO後結晶化
  • COPフィルム
    ・絶乾燥処理
    ・カール抑制処理
  • 塗工室クリーン度 「クラス100」
  • R to Rプロセス
  • 300ppm以下の低酸素濃度の高温熱処理環境
  • 400℃迄昇温可能な16分割温度制御
  • 高精度ナイフ厚膜塗工
  • 脱泡、フィルター高粘度液体ハンドリング

テストから評価まで現場で即確認可能
IN-300 (処理幅300mm)

IN-300
電池隔膜アルミ箔処理、ポリイミドフィルム成形

低酸素雰囲気下で高温熱処理が可能な小型の塗工装置であり、開発初期のシミュレーションテストに好適。

IN-300のユニークな実績

  • 2層フレキシブル回路基板成型
  • 透明ポリイミド単膜成型
    ▪低線膨張係数
    ▪低黄変
    ▪アンチカール
    ▪低残留溶媒

IN-300装置の特徴

  • 塗工ヘッド
    ▪薄膜塗布:マイクログラビア
    ▪厚膜塗布:スロットダイ
  • 0.01m/minの低速運転可能
  • 200ppm以下の低酸素濃度の高温熱処理環境
  • 塗工+キュアの高温処理が一工程で可能

大村研究所熱処理兼コーティング仕様表

設置研究所 大村 大村 大村
コーター名 IN-300 IN-700 IN-1700
塗工ヘッド及び塗工幅 スロットダイ:300mm
マイクログラビア:300mm
ナイフ:630mm マイクログラビア:1600mm
ナイフ:1250mm
原反ロール幅 330mm 650mm 1600mm(ナイフ:1300mm)
走行速度 0.01~4.22m/min 0.2~5.65m/min 1~100m/min
乾燥炉 炉長 4.5m 24m 32m
仕様 熱風ロールサポート 熱風ロールサポート 熱風ロールサポート
ゾーン 3ゾーン 4ゾーン 8ゾーン
最高温度 200℃ 200℃ 230℃
キュア炉 キュア炉:縦炉300℃(1.5m) キュア炉:4m/4ゾーン16m
キュア炉:加熱ロール400℃(1m) max:400℃
N2パージ有 N2パージ有
O2:200ppm O2:300ppm
最大張力(kg) 巻出 10 20 40
炉内 10 20 20
巻取 10 20 40
基材巻芯 巻径 最大300mm 最大500mm 最大600mm
重量 ~200kg ~500kg ~500kg
巻芯径 3or6インチ 3or6インチ 3or6インチ
巻芯長 400mm 700mm 1700mm
クリーン度 クラス ヘッド部1000、他3000 ヘッド部100、他1000 ヘッド部1000、他1000
表面処理装置 コロナ処理(乾燥出口)
ラミネーション ドライラミ
その他 巻取合紙入れ可 巻取合紙入れ可 巻取合紙入れ可
巻取EPC 塗工部、巻取EPC 巻出巻取EPC
低速搬送可 巻出部クリーンブース設置 クリーナーロール設置
低速搬送可 ニア・タッチ巻可能
コーティング用乾燥炉長:7m(2ゾーン) コーティング用乾燥炉長:7m(2ゾーン)
基材実績 PET,PEN:12~188μm PET,PEN:12~188μm PET,PEN:12~188μm
PI:6~38μm PI:6~38μm PI:6~38μm
銅箔:9~50μm 銅箔:9~50μm COP:50μm
SUS箔:12~50μm SUS箔:12~50μm
Fe系箔・チタン箔 Fe系箔・チタン箔
カーボンペーパー カーボンペーパー

ラボの過熱水蒸気コーター

ラボの過熱水蒸気コーター

ラボの過熱水蒸気コーター

  • 過熱水蒸気技術は100℃で蒸発した飽和蒸気を常圧下、更に高温度に加熱した水分子ガス体を利用した過熱水蒸気炉とこれを備えたコーティング装置として特許取得
  • ナノ薄膜塗工と厚膜塗工が可能
  • 空気加熱対比6-12倍熱容量が高いため効率乾燥が可能
  • 低酸素雰囲気下で120-450℃までの熱処理が可能
  • 裾野が広く横展開の可能性が非常に高い技術
  • コーティング処理に適した予熱昇温条件、過熱水蒸気条件、排気条件のノウハウを元にユーザー毎にソリューションを提案できる

過熱水蒸気炉のユニークな実績

  • 低酸素下での熱処理
  • 効率乾燥または脱溶媒
  • 脱脂、脱臭
  • 耐熱樹脂パウダーの熱融着
  • 金属微粒子の焼結
  • フィルム製品の熱歪除去、熱収取率低減、結晶化
  • 密着性向上
  • 化学反応完結
  • 賦形
  • ロール状フィルムまたは金属箔の加工が可能
ヘッド MG AP(可変)
塗工巾(mm) 300 230
必要液量(ml) 200 50
速度(m/min) 1.0~50.0
基材関連 R-R:20m 出:240mmφ 取:240mmφ 巾:330mmMAX
原反コア内径 3インチ
Dryラミフィルム 240mmφ 3インチのみ
最大張力(kg) 巻取10.0 巻出10.0 炉内10.0
乾燥炉・温度 1.5m/2ゾーン max:100℃
(No.1)
max:140℃
(No.2)
キュア炉 1.5m/2ゾーン 過熱水蒸気炉:450℃ 炉長:2m

ラボの真空乾燥炉

ラボの真空乾燥炉
ラボの真空乾燥炉
  • フィルム加工と化学工学エンジニアリングの接点領域に適応するための新規プロセス
  • 樹脂の製造過程で用いられる脱溶剤装置と反応装置を融合した裾野が広く横展開の可能性が非常に高い技術
  • ラボの真空乾燥炉処理技術はロール状の製品から脱溶媒、グリーンシートの反応促進に使用
  • ロール状加工シート、フィルムまたは金属箔の加工が可能なことが最大の特徴
  • 昇温条件、脱気条件のノウハウを元にユーザー毎にソリューションを提案できる


真空乾燥炉のユニークな実績

  • 銅・ポリイミドラミネートの脱溶媒処理(ロール処理)
  • ポリアミック酸のポリイミド化および脱溶媒処理(ロール処理)
真空乾燥炉のユニークな実績
装置名称 真空乾燥炉
到達真空度 -0.04kPa
処理温度 MAX:360℃
処理最大幅 600㎜
処理最大径 290㎜
処理本数 MAX:6本
その他 枚葉処理可