大村開発研究所コーティングマシン
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マルチパーパステストコーター「MP-1600」

大村開発研究所コーティングマシン1
クリーンルーム内に設置された生産対応型テストコーターです。
量産テスト、少量生産用コーターとしてマイクログラビアおよびスロットダイでの塗工が可能です。付属設備としては、コロナ処理装置、UV照射装置2灯(窒素パージの場合は1灯可)、低加速電圧EB照射装置を装備しております。
また、巻出、巻取については、2軸ターレット装置が設備されており、オートスプライス機構にて連続塗工が可能であり、さらに軟X線式インライン膜厚計も装備しておりますので、本格的な量産設備としても充実しております。

MP-1600仕様

コーティングヘッド マイクログラビア スロットダイ
塗工幅(最大) 1600mm 1250mm
シート幅(最大) 1650mm 1350mm
機械速度 1~70m/min オートスプライス使用は40m/min以下
ラミネーション ドライラミ(加熱なし)
乾燥炉 炉内 ロールサポート
炉長 8ゾーンで全長22m
最高温度 165℃
UV装置※ 160W×2灯(窒素パージ使用時は1灯のみ)
EB装置(事前調整必要) 加速電圧:60~90kV 最大照射能力:2000kGy・m/min
インライン膜厚計 軟X線式膜厚計<株式会社ヒューテック社製
表面処理装置 コロナ処理
スリッター 両端部スリット用
巻芯 内径:3インチおよび6インチ
長さ:3インチ→1800mm以下 6インチ→1700mm以下
最大巻径 700mm
クリーン度 塗工部:クラス1000 その他:クラス5000
概略図

※ ランプ:高圧水銀またはメタハラ

マーケティングテストコーター「OS-750」

大村開発研究所コーティングマシン2
比較的少量の塗工液でもサンプル試作可能な大変効率の良いテストコーターです。
厚膜乾燥用に遠赤外線ヒーターを乾燥炉前半部に設置し、薄膜から厚膜までの塗工テストおよび試作が可能です。
また、常設されているUV照射装置は窒素パージが可能で、UV硬化薄膜の塗工に大変有効です。
さらに、量産試作用として赤外線式透過膜厚計も設置しております。
※ナイフは600μまではゲージで管理可能。それ以上はスペーサー等で対応します。

OS-750仕様

コーティングヘッド マイクログラビア スロットダイ ナイフ
塗工幅(最大) 750mm 750mm 700mm
シート幅(最大) 780mm
機械速度 1~50m/min
ラミネーション ドライラミ(加熱なし)
乾燥炉 炉内 ロールサポート
炉長 5ゾーンで全長10m
最高温度 175℃
遠赤外線ヒーター 乾燥ゾーンNo.1~2に設置。最高温度300℃
UV装置※ 120~160W(窒素パージ可)
インライン膜厚計 赤外線式透過型膜厚計<倉敷紡績株式会社製
表面処理装置 コロナ処理
巻芯 内径:3インチおよび6インチ 長さ:850mm以下
最大巻径 600mm
クリーン度 塗工部:クラス500 巻き取り部:クラス3000
概略図

※ ランプ:高圧水銀またはメタハラ

開発用テストコーター「OS-300」

(※現在移設のため、休止中)
大村開発研究所コーティングマシン3
開発用として、少量の塗料及び基材でサンプル試作が可能なコーティングマシンです。
マイクログラビア(2ヘッド)、スロットダイ、ナイフと3種類のヘッドを備えています。
また、乾燥炉全部にプレートヒーターが設置されており、厚塗り塗工の乾燥で威力を発揮します。

OS-300仕様

コーティングヘッド マイクログラビア スロットダイ ナイフ
塗工幅(最大) 300mm 300mm 300mm
シート幅(最大) 350mm
機械速度 0.1~20m/min
ラミネーション ドライラミ(加熱なし)
乾燥炉 炉内 ロールサポート
炉長 4ゾーンで全長6.5m
最高温度 180℃
プレートヒーター 全ゾーン設置。最大400℃
UV装置※ 120W(ランプ:高圧水銀またはメタハラ)
表面処理装置 コロナ処理
巻芯内径 3インチおよび6インチ
最大巻径 300mm
クリーン度 クラス10000
概略図
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